近年來的發(fā)展趨勢是在自動工作方式的勻膠機(jī)中加入預(yù)涂增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊，以增強(qiáng)光刻膠和晶片的附著力。為了提高生產(chǎn)率，國外已經(jīng)研制出多種工藝模塊任意組合的積木式結(jié)構(gòu)，有的還帶有膠膜自動測量和監(jiān)控裝置。

　　

　　應(yīng)用：

　　該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。

　　

　　從其原理來說它有以下兩個特點(diǎn)：

　　(1)旋轉(zhuǎn)速度

　　轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準(zhǔn)確的實(shí)驗數(shù)據(jù)的。目前轉(zhuǎn)速控制方面有國際認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)，如美國NIST標(biāo)準(zhǔn)等。

　　

　　(2)真空吸附系統(tǒng)

　　真空泵一般采用無油泵，即通常說的干泵，因為任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導(dǎo)致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況，還會讓滴的膠液不慎進(jìn)入真空管道系統(tǒng)造成*堵塞。有的勻膠機(jī)通過聯(lián)動機(jī)制，當(dāng)真空吸附力不夠時不會開始旋轉(zhuǎn)。這樣可有效避免滴的膠液不慎進(jìn)入真空管道系統(tǒng)。

　　

　　總的來說，他們原理都是一樣的，即在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。